創控：2026年全球半導體資本支出看增 AMC 需求暢旺

半導體先進製程AMC奈米監測設備廠商創控（6909）於12日指出，隨着先進製程對微環境潔淨要求提升，以及2 奈米制程積極擴產的建廠需求，2026年全球半導體廠資本支出預期再創新高。公司樂觀看好新產品以及新客戶帶來的爆發力，並將在既有成長基礎上，持續投入高精度AMC監控技術與設備的研發，滿足先進製程尚未充分開發的監控需求，保持創控長期穩定成長空間。

創控日前已公告2025年12月營收1.06億元，單月營收首度突破億元大關並創下歷史新高；全年營收5.51億元，亦爲歷年最高，年增11.08％，達到營收雙位數成長目標。

因應半導體先進製程對潔淨度與污染控制要求持續提升，創控將 AMC 監控能力自廠務環境延伸至微環境暨設備環境，協助半導體廠提升製程品質與設備可靠性。微環境暨設備環境的新產品 FMS2000 晶圓盒（FOUP）監測系統與 MiTAP M3 氣體分析儀，能精準監測晶圓盒與製程設備周邊的分子污染，確保製程環境穩定與良率提升。新產品效益逐步發酵，推動微環境暨設備環境市場滲透，與既有廠務環境營收形成多元動能，加上積極拓展新客戶，創控營運規模持續擴張。

半導體氣體分子污染物（AMC）監控設備廠創控科技董事長王禮鵬。記者尹慧中／攝影