不用再靠ASML？陸首臺EUV原型機現身 美媒揭量產時間

大陸力拚晶片業自給自足。（示意圖：shutterstock/達志）

大陸近年積極發展科技業，路透社披露，大陸已成功生產EUV（極紫外光曝光機）原型機，但距離量產或商用仍有一大段差距。美國科技媒體Tom's Hardware進一步指出，大陸正積極建造 EUV（極紫外光）光刻系統的原型機，預計在2030年左右能製造出原型晶片。

專家表示，EUV 光刻機是製造先進晶片的核心設備，其技術高度複雜，涉及光源、投影光學、精密成像等多方面技術，要等到大陸企業能使用國產EUV設備量產晶片，至少還需要10年時間。

掌握極紫外光刻機技術的荷蘭大廠ASML曾表示，有企業想複製其技術是合理的，但真正做到絕非易事。報導指出，大陸正在建造EUV微影原型機，該設備更有前ASML員工參與。

大陸突破EUV關鍵人物是前ASML研究部員工林楠，他在2021年回到大陸，加入上海光機所，僅用18 個月就申請8項與EUV相關的技術專利。2025年10 月，他離開上海光機所，前往北京航空航太大學積體電路科學與工程學院任教。

外媒分析認爲，林楠運用自身經驗和知識，協助大陸團隊提升光刻機基礎技術，而非直接複製ASML技術，他透過自主研發和專利佈局，爲大陸在EUV光刻領域的長期發展奠定基礎。

目前大陸只是進入了原型機的環節，再從技術上來看，光源發射器僅是EUV光刻的第一步，若沒有蔡司這樣的精密成像系統，即使掌握了光源，也無法正常驅動光刻機。

EUV設備是由超過10萬個零件組成，涵蓋全球超過5000家供應商，並需要成百上千名專業工程師進行調試與維護，可見其生態系統的龐大與複雜，必須依賴完整產業鏈協同發展。